EUV 光刻周边组件
高纯度碳化硅材料，满足极紫外光刻系统对材料洁净度与热稳定性的严苛要求。
半导体
EUV 光刻周边组件、晶圆检测窗口、半导体设备光学件。
半导体制造与检测的核心材料
碳化硅小镜片与光学窗口在半导体行业中扮演重要角色，其高纯度、低缺陷、耐高温和化学稳定性使其成为先进半导体设备的关键材料。
上海菁河实业为半导体客户提供高品质的碳化硅小镜片、晶圆检测窗口和EUV光刻周边光学组件，助力半导体制造向更高精度、更高效率发展。
晶圆检测窗口
优异的光学透过率与表面质量，为晶圆缺陷检测和量测设备提供清晰成像。
半导体设备光学件
高硬度、耐腐蚀，适用于刻蚀、沉积等工艺设备中的光学保护组件。